次微米计画指开发小于一微米的半导体制作技术的计画。民国七十九年，为建立完整之半导体产业，引导产业进入次微米时代。经济部委托工研院电子所筹建次微米实验室。正式展开为期五年（西元一九九○至一九九五年）的次微米研发工作如下：(1)建立一座八寸晶圆，Class 0.1(0.3微米）的世界一流水准的实验室，以提供开发次微米制程技术。(2)在一九九五年以前使中华民国具备：a.0.7/0.5微米整合制程技术。b.0.35微米制程模组技术。(3)建立超洁净技术及八寸晶圆量产型技术。(4)建立中华民国极大型积体电路（ULSI）研究发展能力，并对世界IC研究发展的领域有所贡献。